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Modificación de superficies de polvos farmacéuticos mediante deposición por capas atómicas (ALD)


Una empresa finlandesa ha desarrollado y obtenido la patente de un método para fabricar formas de dosificación de fármacos basadas en capas funcionales y protectoras a escala nanométrica en partículas farmacéuticas. El método basado en deposición por capas atómicas (ALD) permite limitar el uso de excipientes y elimina los numerosos pasos de procesamiento en fabricación farmacéutica, reduciendo así los costes. La tecnología ofrece una forma única de encapsular medicamentos individuales con una conformidad extrema, ofreciendo un método para controlar la solubilidad y disolución de forma ultra precisa. La empresa busca socios de la industria farmacéutica con el fin de establecer acuerdos de investigación, cooperación técnica o licencia.


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